nano-master杰出的濺射系統(tǒng)可構(gòu)建成多腔體和多蒸發(fā)源的配置,在介質(zhì)上濺射金屬和介質(zhì)材料,最大可支持200mm的襯底。系統(tǒng)可以配置dc直流、rf射頻和pulse dc脈沖直流等電源來進行序列濺射或共濺射。 系統(tǒng)使用渦輪分子泵組,工藝腔極限真空可達5 x 10-7torr。可以通過調(diào)節(jié)靶基距,實現(xiàn)所需要的均勻度和沉積速率的調(diào)節(jié)。旋轉(zhuǎn)樣品臺可提供薄膜最優(yōu)的均勻性。