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光學(xué)平臺產(chǎn)品及廠家

日本理音RION 氣體粒子計數(shù)器
日本rion氣體粒子計數(shù)器:ka-02( 光散射方式),多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器,測試粒徑(2個通道):≥0.3μm , ≥0.5μm,大粒子數(shù)濃度:140 000 000顆/l (誤差值低于10%)
更新時間:2024-12-20
日本理音RION氣體粒子計數(shù)器
日本rion氣體粒子計數(shù)器:ka-03( 光散射方式),多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器,測試粒徑(5個通道):≥0.3μm , ≥0.5μm ,≥1μm , ≥2μm ,≥5μm ,大粒子數(shù)濃度:140 000 000顆/l (誤差值低于10%)
更新時間:2024-12-20
日本理音RION氣體粒子計數(shù)器
日本rion氣體粒子計數(shù)器:ka-82( 光散射方式),多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器,測試粒徑(5個通道):≥0.1μm , ≥0.15μm, ≥0.2μm , ≥0.3μm , ≥0.5μm ,大粒子數(shù)濃度:10 000顆/l (誤差值低于5%)
更新時間:2024-12-20
綠光納鉆孔設(shè)備
玻璃去油墨設(shè)備,采用訂制紫外納激光器對玻璃表面進(jìn)行去油墨以及油墨微加工, 將產(chǎn)品損傷降至低。
更新時間:2024-12-20
美國OAI光刻機(jī)
oai 800型光學(xué)正面和背面光刻機(jī)系統(tǒng), 是半自動,four-camera、光學(xué)正面和背面光刻機(jī)。它提供其精確的(1碌m - 2 m碌)對準(zhǔn)精度,旨在大大超過任何紅外背后對準(zhǔn)器性能的一個非常有競爭力的價格。通用模型800光刻機(jī)是理想的用于低產(chǎn)量、研發(fā)實驗室和大學(xué)。
更新時間:2024-12-20
瑞士納米結(jié)構(gòu)高速直寫機(jī)機(jī)
瑞士nanofrazor 3d納米結(jié)構(gòu)高速直寫機(jī),源于發(fā)明stm和afm的ibm蘇黎世研發(fā)中心,是其在納米加工技術(shù)的新研究成果。nanofrazor納米3d結(jié)構(gòu)直寫機(jī)第 一次將納米尺度下的3d結(jié)構(gòu)直寫工藝快速化、穩(wěn)定化。
更新時間:2024-12-20
中國nanoArch科研3D打印機(jī)
nanoarch科研3d打印機(jī)m160 ,本套系統(tǒng)創(chuàng)新地使用了自動化的多材料送料系統(tǒng),兼顧高精度和多材料打印,可支持同時打印4種樹脂基復(fù)合材料進(jìn)行層間或?qū)觾?nèi)多材料3d打印,適用于基礎(chǔ)理論驗證及原理創(chuàng)新研究,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。其主要應(yīng)用在點陣結(jié)構(gòu)材料、功能梯度材料、超材料、復(fù)合材料、復(fù)雜微流控,多材料4d打印等方面。
更新時間:2024-12-20
中國nanoArch科研3D打印機(jī)
nanoarch微納3d打印機(jī) p130/s130 ,科研3d打印系統(tǒng),擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚,從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
更新時間:2024-12-20
中國nanoArch科研3D打印機(jī)
nanoarch 3d打印機(jī)p140/s140 ,科研3d打印系統(tǒng),擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚,從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
更新時間:2024-12-20
理音RION 采樣器統(tǒng)
理音rion kz-30uk采樣器,易于操作的室內(nèi)化學(xué)采樣器,當(dāng)腔體壓力過高的時候, 可以排凈空氣,防止發(fā)生故障 ,設(shè)計簡單的化學(xué)防爆采樣器,kz-30uk的設(shè)計是可以為 離線測試的液體粒子計數(shù)器提供加壓。
更新時間:2024-12-20
美Nano-master熱蒸鍍系統(tǒng)
美nano-master熱蒸鍍系統(tǒng):nte-4000 獨立式電子束蒸鍍,nte-3500 緊湊型獨立式熱蒸鍍,nte-3000 雙蒸源臺式熱蒸鍍系統(tǒng),nte-1000 簡便型熱蒸鍍。熱蒸鍍系統(tǒng)可以跟nano-master那諾-馬斯特的其它任意真空系統(tǒng)組成雙系統(tǒng)。
更新時間:2024-12-20
美Nano-master磁控濺射系統(tǒng)
美nano-master磁控濺射系統(tǒng):nsc-4000獨立式磁控濺射系統(tǒng),可支持共濺射等能力的擴(kuò)展nsc-3500緊湊型獨立式熱蒸鍍,可以支持金屬材料的dc濺射,介質(zhì)材料的rf濺射,以及脈沖dc濺射等應(yīng)用。nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射nsc-1000單金靶靶材的臺式濺射系統(tǒng),不但可用于電鏡制備,也可以用于常規(guī)的金屬濺射
更新時間:2024-12-20
NANO-MASTER的等離子增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PECVD系統(tǒng)
nano-master的等離子增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)pecvd系統(tǒng)npe-4000,可以制造高質(zhì)量的氧化硅、氮化硅、碳納米管、金剛石和碳化硅等薄膜;蹇梢匀菁{8英寸晶圓,可通過射頻、脈沖直流或者直流電源提供偏壓,可通過熱電阻或者紅外燈加熱到800°c。ns
更新時間:2024-12-20
美NANO-MASTER電子束蒸鍍系統(tǒng)
nano-master電子束蒸鍍系統(tǒng) nee-4000,可通過樣片掩膜實現(xiàn)組合蒸鍍,并可通過電腦控制單個電子束蒸鍍的蒸鍍速率。系統(tǒng)可支持共蒸鍍功能。能夠升支持自動上下片,以及手動或自動翻轉(zhuǎn)樣片實現(xiàn)雙面鍍膜。該系列的e-beam電子束蒸鍍系統(tǒng),也可以跟磁控濺射
更新時間:2024-12-20
美NANO-MASTER  IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)
ibm離子銑/ibe離子束刻蝕系統(tǒng):nie-4000 獨立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nie-3500 緊湊型獨立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nir-4000 獨立式 ibe / rie 雙刻蝕系統(tǒng)nie-3000 臺式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射
更新時間:2024-12-20
美Nano-master等離子清洗/灰化系統(tǒng)
nano-master等離子清洗和灰化系統(tǒng)設(shè)計用于廣泛的需求,從批處理和單晶圓的光刻膠剝離到晶圓表面改性都可以涵蓋。這些系統(tǒng)通過計算機(jī)控制,可以配套不同的等離子源,加熱和不加熱的基片夾具,以及獨一無二的從等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式的能力。$r
更新時間:2024-12-20
美Nano-master  ALD/PEALD原子層沉積系統(tǒng)
美nano-master ald/peald原子層沉積:nld-4000 獨立式ald系統(tǒng)nld-3500 緊湊型獨立式ald系統(tǒng)nld-3000 臺式ald系統(tǒng)
更新時間:2024-12-20
美Nano-master  RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)
美nano-master rie反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)nrr-4000 獨立式雙rie或icp刻蝕系統(tǒng)nre-4000 獨立式rie或icp系統(tǒng)nre-3000 臺式rie系統(tǒng)ndr-4000 深硅刻蝕系統(tǒng)
更新時間:2024-12-20
美Nano-master 熱真空太空模擬系統(tǒng)
美nano-master 熱真空太空模擬系統(tǒng) ndt-4000,是一款器件測試系統(tǒng),俗稱“熱真空系統(tǒng)”,可以用于真空和可控的均勻加熱以及冷卻循環(huán)條件下的器件或樣片測試。
更新時間:2024-12-20
美NANO-MASTER  RTP快速退火爐
美nano-master rtp快速退火爐nrt-3500 緊湊型獨立式全自動rtp系統(tǒng)nrt-4000 獨立式全自動rtp系統(tǒng)nrt-4000 獨立式大批量rtp系統(tǒng)nir-4000 獨立式 ibe / rie 雙刻蝕系統(tǒng)nie-3000 臺式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射
更新時間:2024-12-20
美NANO-MASTER  SWC單晶圓清洗系統(tǒng)
美nano-master swc單晶圓清洗系統(tǒng)swc-3000 臺式單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)swc-4000 立柜式單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)swc-5000 帶25片cassette 機(jī)械手自動清洗nrt-4000 獨
更新時間:2024-12-20
美Nano-master 大基片清洗機(jī)
美nano-master 大基片清洗機(jī) large substrate cleaning :lsc-4000 是一款獨立式清洗機(jī),使用計算機(jī)控制,大可支持外徑21”的基片。
更新時間:2024-12-20
韓國Ecopia 全自動變溫霍爾效應(yīng)測試儀
韓國ecopia 全自動變溫霍爾效應(yīng)測試儀 hms-5300lth,溫度范圍:80k-573k,測量材料si, sige, sic, gaas, ingaas, inp, gan, tco(including ito),alzno, fecdte, zno 等所有半導(dǎo)體薄膜(p 型和 n 型);
更新時間:2024-12-20
英國Quorum鍍金鍍碳一體機(jī)
英國quorum q150t plus 鍍金鍍碳一體機(jī),是一款優(yōu)化設(shè)計的帶渦輪分子泵抽真空的鍍膜設(shè)備,真空度可達(dá)5x10-5mbar?梢詾R射具有超細(xì)成膜顆粒的易氧化金屬,適用于高分辨率成像。同樣地,低散射可得到均勻而致密的無定形碳膜。
更新時間:2024-12-20
SUSS光刻機(jī)用曝光燈HBO系列
suss蘇斯/休斯,evg, oai等系列光刻機(jī)用曝光燈hbo系列,suss蘇斯,evg, oai公司生產(chǎn)的半導(dǎo)體和太陽能行業(yè)用光刻機(jī),目得到業(yè)界的廣泛認(rèn)同,該系列光刻機(jī)曝光系統(tǒng)的曝光燈,主要是由德國歐司朗及日本牛尾公司生產(chǎn)的曝光燈進(jìn)行配套供應(yīng)。歐司朗/牛尾曝光燈系列,具備良好的光通量,穩(wěn)定的光強度以及優(yōu)質(zhì)的品質(zhì)受到業(yè)界的青睞。
更新時間:2024-12-20
ADLEMA檢漏機(jī)
adlema先進(jìn)的檢漏機(jī)bt4000技 術(shù) 規(guī) 格• 尺 寸 :270x200x300mm• 重 量 :8kg• 電 源 輸 入 :24 vdc• 管 徑 :4x2, 6x4, 8x6, 10x8
更新時間:2024-12-20
美國KLA 原位高溫納米力學(xué)測試系統(tǒng),納米壓痕儀
美國kla insem ht原位高溫納米力學(xué)測試系統(tǒng),納米壓痕儀,樣品加溫可達(dá)800 ℃,樣品尺寸可達(dá)10mm,裝樣系統(tǒng)與真空環(huán)境兼容
更新時間:2024-12-20
紫外光刻機(jī)
ure-2000/34al型光刻機(jī),曝光分辨率: 0.8μm-1μm ,套準(zhǔn)精度:±0.8-1μm
更新時間:2024-12-20
微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
德國iplas mpcvd cyrannus® 利技術(shù)微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),廣泛應(yīng)用于第四代半導(dǎo)體,射頻器件,散熱器件,光學(xué)窗口等高科技令域,晶圓生長金剛石膜,被譽為半導(dǎo)體終材料。
更新時間:2024-12-20
德國Sentech光伏測量儀
德國sentech光伏測量儀mdpmap,靈活的自動掃描系統(tǒng),是專為半導(dǎo)體晶片或部分工藝過的晶片的多功能、非接觸和少子壽命測量而設(shè)計的。mdpmap能夠連續(xù)地改變激發(fā)脈沖寬度,從非常短的脈沖(100ns)到穩(wěn)態(tài)測量(幾ms),研究不同深度的缺陷動力學(xué)和少子壽命特性。直觀的繪圖軟件適用于有效的常規(guī)測量以及復(fù)雜的研發(fā)應(yīng)用。
更新時間:2024-12-20
接觸角測量儀
100s接觸角測量儀是采用光學(xué)成像的原理,通過圖像輪廓分析方式測量樣品表面接觸角、潤濕性能、表界面張力、表面能等性能,設(shè)備性價比高、功能全面、可滿足各種常規(guī)測量需要。
更新時間:2024-12-20
德國KRUSS標(biāo)準(zhǔn)型DSA25接觸角測量儀
德國kruss標(biāo)準(zhǔn)型dsa25接觸角測量儀,接觸角測量范圍:0-180,接觸角測量精度:±0.10,表界面張力測量范圍:0-1000mn/m;測量精度:0.01 mn/m
更新時間:2024-12-20
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000 系列紫外單面光刻機(jī)此系列包含六種型號:ure-2000a,ure-2000b,ure-2000/35,ure-2000/35a,ure-2000/25,ure-2000/17
更新時間:2024-12-20
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s 系列雙面光刻機(jī),對準(zhǔn)精度:±2 mm(雙面,片厚 0.8mm),±0.8mm(單面)
更新時間:2024-12-20
URE-2000B 型紫外單面光刻機(jī)
ure-2000b 型紫外單面光刻機(jī),曝光面積:100mmx100mm,分辨力:0.8μm(膠厚 2μm 的正膠)
更新時間:2024-12-20
URE-2000/600 紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/600 紫外單面光刻機(jī),光束口徑: 650mm×650mm,對準(zhǔn)精度: ±1.5μm
更新時間:2024-12-20
無掩膜單面光刻機(jī)
ds-2000/14k 無掩膜單面光刻機(jī),采用 dmd 作為數(shù)字掩模,像素數(shù) 1024×768,采用 14 倍縮小投影光刻物鏡成像。
更新時間:2024-12-20
型無掩模單面光刻機(jī)
ds-2000/14g 型無掩模單面光刻機(jī),采用 dmd 作為數(shù)字掩模,像素數(shù) 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三種選配,采用縮小投影光刻物鏡成像,分辨力 1um。
更新時間:2024-12-20
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/35a 型紫外單面光刻機(jī),,非常適合工廠(效率高,操作傻瓜型,全自動)和高校教學(xué)科研(可靠性好,演示方便)采用自動找平,具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能,自動分離對準(zhǔn)間隙和消除曝光間隙,采用 350w 進(jìn)口(德國)直流汞燈,可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制,性能非?煽,自動化程度很高,操作十分方便。
更新時間:2024-12-20
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/35 型紫外單面光刻機(jī),非常適合工廠(效率高,操作傻瓜型,自動化程度高)和高校教學(xué)科研(可靠性好,演示方便)采用自動找平,具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝以及接近式曝光四種功能,自動分離對準(zhǔn)間隙和消除曝光間隙,采用 350w 進(jìn)口(德國)直流汞燈,可調(diào)節(jié)光的能量密度。設(shè)備外形美觀精制,性能非?煽,自動化程度很高,操作十分方便。
更新時間:2024-12-20
紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/35l 型紫外單面光刻機(jī),曝光面積:100mm×100mm;分辨力:1.0 μm(膠厚 2.0 μm 的正膠,365nm 波長)
更新時間:2024-12-20
型紫外單面光刻機(jī)(臺式)
ure-2000/17 型紫外單面光刻機(jī)(臺式),曝光面積:4 英寸,分辨力:1.5μm(膠厚 2 m 的正膠),對準(zhǔn)精度:±1μm
更新時間:2024-12-20
型紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/25 型紫外單面光刻機(jī),曝光面積:4 英寸,分辨力:1 μm(膠厚 2 μm的正膠),對準(zhǔn)精度:± 0.8μm
更新時間:2024-12-20
紫外雙面光刻機(jī)型紫外單面光刻機(jī)
ure-2000s/25a 型紫外雙面光刻機(jī),曝光面積:6 英寸,分辨力:1 μm
更新時間:2024-12-20
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/25 型紫外雙面光刻機(jī),曝光面積:4 英寸,正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡:既可通過目鏡目視對準(zhǔn),也可通過 ccd+顯示器對準(zhǔn),光學(xué)合像,光學(xué)大倍數(shù) 400 倍,光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時間:2024-12-20
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/b 型紫外雙面光刻機(jī),曝光面積:6 英寸,對準(zhǔn)精度:± 2μm (雙面,片厚 0.8mm),± 0.8μm (單面)
更新時間:2024-12-20
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/a8 型紫外雙面光刻機(jī), 曝光面積:8 英寸, 曝光波長:365nm: 15mw/cm,405nm:15-30mw/cm2, 對準(zhǔn)精度:±2 μm (雙面,片厚 0.8mm)±0.8 μm (單面)
更新時間:2024-12-20
雙面光刻機(jī)
ure-2000s/25s 型雙面光刻機(jī),曝光面積:4 英寸(或 6 英寸),正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡:既可通過目鏡目視對準(zhǔn),也可通過 ccd+顯示器對準(zhǔn),光學(xué)合像,光學(xué)大倍數(shù) 400 倍,光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時間:2024-12-20
紫外雙面光刻機(jī)
ure-2000s/35l(a)型紫外雙面光刻機(jī),曝光面積:6 英寸,正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡:既可通過目鏡目視對準(zhǔn),也可通過 ccd+顯示器對準(zhǔn),光學(xué)合像,光學(xué)大倍數(shù) 400 倍,光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時間:2024-12-20
雙面光刻機(jī)
ure-2000s/35l(b)型雙面光刻機(jī), 曝光面積:4 英寸, 正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡:既可通過目鏡目視對準(zhǔn),也可通過 ccd+顯示器對準(zhǔn),光學(xué)合像,光學(xué) 大倍數(shù) 400 倍,光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時間:2024-12-20

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熱門儀器: 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗機(jī) 酸度計(PH計) 離心機(jī) 高速離心機(jī) 冷凍離心機(jī) 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) 生物試劑